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无掩膜激光直写系统

Microwriter ML II

Microwriter ML II无掩膜激光直写系统是专门为科研实验室设计开发的多功能激光直写光刻系统,不仅具有无掩模板直写系统的灵活性,还拥有高书写速度、高分辨率和低成本的特点。Microwriter ML II采用集成化设计、全自动控制,可靠性高,操作简便,是微电子、半导体研究中代替传统光刻工艺的理想工具。

最大加工区域:直径200mm

宽域曝光模式,包含405nm375nm两个曝光波段

激光最高分辨率:0.6 µm

自动对焦精度: 100 nm

可识别DXF, CIF, GDSII, Gerber格式文件


电子/半导体器件、微/纳电机系统 、自旋电子学、传感器、微流控 、材料科学、生物实验室芯片、光子学等。


1.开启硬件后应等待1分钟后方可启动软件,这段时间用于板载电路的自检。 

2.如曝光完毕,不开启舱门而关闭MWII软件,样品-物镜距离将停留在对焦距离,即样品与物镜距离较近,如在这中状态下取出样品,容易因样品不平,造成样品与物镜接触。 

3.如曝光任务结束后不需立即取出样品的,需将sample thickness 手工设为最大。在样品台上有样品时需要在MWII软件开启状态下,开启舱门。 


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