微纳加工

联系我们

联系地址:深圳市南山区深圳大学城学苑大道1068号
电话:0755-86392582

您当前的位置:首页>>微纳加工>>仪器设备 仪器设备

Parylene沉积系统

Parylene CVD PDS2010

Parylene沉积系统是在常温下采用带有双游离基的活性单体,先将单体沉落附着在基体上,然后通过各单体的活性键的键合从而在基体上成膜的设备。具有其它涂层难以比拟的性能优势。它能涂敷到各种形状的表面,包括尖锐的棱边,裂缝里和内表面。

1.沉积压力闭环控制系统:确保涂敷过程中沉积压力的一致性和稳定性,从而保证沉积的均匀性和一致性。 

2.独特的沉积室设计:多尺寸可更换的EP级不锈钢沉积腔,坚固可靠,易于清理维护,玻璃观察窗可视化。腔室内部导流管的设计更加均匀的流体分布。 

3.SCS parylene原料:采用专利的二次造粒技术,使颗粒状原料在蒸发时受热更均匀,达到了更好的蒸发效率。

Parylene镀膜技术广泛用于航空航天、磁性材料、印制电路组件和元器件、微电子机械系统(MEMS)、传感器、生物医用电子、集成电路等领域。

1.蒸发及裂解室:在沉积过程中,禁止在开机状态下触摸;连续开机时,在未完全冷却条件下开启装料门时,必须带高温防护手套;

2.导气管:在未完全冷却条件下装卸导气管,必须带高温防护手套;

3.冷阱: 冷阱开启后,冷阱头处于-90℃左右的低温,严禁未带防护手套触摸。

copyright 2013 中国科学院深圳先进技术研究院 版权所有 粤ICP备09184136号-3
地址:深圳市南山区西丽深圳大学城学苑大道1068号 邮编:518055 邮件:info@siat.ac.cn       技术支持:深圳网站建设 【佰达】